特許

J-GLOBAL ID：200903042720309084

排ガス浄化触媒およびその製造方法

発明者： 石川 敬郎 ,  大石 知司 ,  前川 幸子 ,  高橋 研 ,  加藤 明
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-087066
公開番号（公開出願番号）：特開平7-289896
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月07日
要約：

【要約】【目的】 酸素過剰の酸化雰囲気中において、炭化水素類を還元剤に用いて窒素酸化物を除去する耐熱性に優れ、かつ低温高活性な触媒を提供する。【構成】 アルミナを主体とした酸化物から構成され、Rh/Mg-Al2O3、Co/Mg-Al2O3、Ag/Mg-Al2O3の3種類の触媒を用い、反応管3内の触媒層4中に、Co/Mg-Al2O3を第一層1に、次いでRh/Mg-Al2O3を第二層2に充填し、二層構造を有した触媒層を作製する。このように、二種類の触媒を積層することにより、有効な反応温度域を幅広くすることができ、ガス流れに方向性を持たせることができる。

請求項（抜粋）：

固体酸性酸化物を主体とする触媒に0.001wt%〜0.1wt%塩基性酸化物を添加したことを特徴とする排ガス浄化触媒。

IPC (8件)：

B01J 23/63 ,  B01J 23/63 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/58 ZAB ,  B01J 23/66 ZAB ,  B01J 23/78 ZAB ,  B01J 23/89 ZAB

FI (5件)：

B01J 23/56 301 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 H ,  B01D 53/36 102 B ,  B01J 23/56 ZAB