特許

J-GLOBAL ID：200903042737668614

流体のプログラム可能な微量分析規模の操作のための装置及び方法

発明者： ツッチェリー ピエロ ,  ヴァン ド ヴィヴァール バール
出願人/特許権者： スピンクス インコーポレイテッド
代理人 (4件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  今城 俊夫 ,  西島 孝喜
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-557600
公開番号（公開出願番号）：特表2006-508790
出願日： 2003年12月04日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

本発明は、最初に流体伝達に分離される二つの微量流体構成部品を置くことにより、流量を調整する微量流体回路に向けられている。その二つの構成部品が接続された時間、及び、そのような流体伝達の位置の両方とも任意であり、外部で定めることができる。従って、本発明は、有限数の好ましくは不可逆バルブを説明しており、それらの全ては、最初は閉じた状態であるが、任意の時間において、かつ任意の順番で開くことができる。

請求項（抜粋）：

複数の第一の流体構成部品を備える第一の基板、 前記第一の流体構成部品に対応する複数の第二の流体構成部品を備える第二の基板、 前記複数の第一の流体構成部品を、前記複数の第二の流体構成部品から分離する材料層、及び、 前記複数の第一の流体構成部品、及び前記複数の第二の流体構成部品からの少なくとも一対の対応する流体構成部品間に置かれた前記層の一部に対応する位置において、前記材料層上に向けるための選択された電磁輻射を生成するための電磁生成手段、 を備え、前記選択された電磁輻射が、少なくとも一対の流体構成部品間の流体伝導を可能にする前記位置において、前記材料層の穿孔を生じさせる ことを特徴とする、流体を処理するための装置。

IPC (6件)：

B01J 19/00 ,  B81B 1/00 ,  B81C 5/00 ,  G01N 35/00 ,  G01N 35/08 ,  G01N 37/00

FI (6件)：

B01J19/00 321 ,  B81B1/00 ,  B81C5/00 ,  G01N35/00 D ,  G01N35/08 A ,  G01N37/00 101

Fターム (25件)：

2G058BA06 ,  2G058DA01 ,  2G058DA07 ,  2G058EA14 ,  2G058EB11 ,  4G075AA02 ,  4G075AA39 ,  4G075BC10 ,  4G075BD15 ,  4G075CA24 ,  4G075CA32 ,  4G075CA33 ,  4G075CA34 ,  4G075CA36 ,  4G075CA51 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB34 ,  4G075EB35 ,  4G075ED01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FC04