特許
J-GLOBAL ID：200903042748722858
X線露光用マスク及びそのブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-129684
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129190
出願日： 1991年05月31日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】X線露光用マスクの透過支持膜において、アライメント光の透過率が波長の少しの変化により干渉が発生し、透過率が変化するのを防止することを目的としている。【構成】枠体11と第1の反射防止膜2とX線透過支持膜3と第2の反射防止膜4とX線吸収体パターン16からなっている。枠体11は周囲のみに形成されており、非常に薄いX線透過支持膜3等を支持している。第1の反射防止膜2とX線透過支持膜3と第2の反射防止膜4は層状をなしており、一体となって枠体11とその枠体により形成されている窓に張られて形成されている。X線吸収体パターン16は窓部に形成されており、X線非透過性の膜が窓上でパターン化されて形成されている。
請求項（抜粋）：
アライメント光透過性X線透過支持膜の両側に反射防止膜が形成され、主面の反射防止膜上にX線吸収体パターンが形成されていることを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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