特許
J-GLOBAL ID:200903042753304304

レジスト塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 守 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-101180
公開番号(公開出願番号):特開平8-293452
出願日: 1995年04月25日
公開日(公表日): 1996年11月05日
要約:
【要約】【目的】 多種類のレジストの使用が可能で、直径の大きな半導体ウエハ201にも均一な膜厚でレジストの塗布ができ、安価で塗布作業の簡単なレジスト塗布装置を提供する。【構成】 半導体ウエハ201を載置して回転駆動する回転台200の上方に、保持板400が配置され、その保持板400に、ノズル取付用回転円板300が回転可能に保持される。ノズル取付用回転円板300の回転中心C’は回転台200の中心軸線Cから偏心した位置に配置される。半導体ウエハ201上にレジストを吐出する複数のノズル611-613からなる少なくとも1列のノズル群610、620、630が、ノズル取付用回転円板300にその半径方向に互いに間隔を存して取り付けられる。ノズル群610、620、630の複数のノズル611-613のうちの少なくとも1つの取付位置が調節可能である。
請求項(抜粋):
半導体ウエハを載置して回転させるための回転軸を有する回転台と、前記回転台の上方に配置される保持板と、前記保持板に回転可能に保持され、回転中心が前記回転台の回転軸の中心軸線から偏心した位置に配置されるノズル取付用回転円板と、前記ノズル取付用回転円板にその半径方向に互いに間隔を存して取り付けられ、前記半導体ウエハ上にレジストを吐出する複数のノズルからなる少なくとも1列のノズル群とを備え、前記ノズル群の複数のノズルのうちの少なくとも1つの取付位置が調節可能であることを特徴とするレジスト塗布装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G11B 7/26
FI (4件):
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G11B 7/26

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