特許

J-GLOBAL ID：200903042755807613

粉体処理装置

発明者： 永徳 久登 ,  竹林 賢治
出願人/特許権者： ホソカワミクロン株式会社
代理人 (1件)： 北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295362
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117083
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 被処理物の処理能力および操作性に優れた粉体処理装置を提供する。【解決手段】 鉛直方向に沿った回転軸心Xの回りに回転自在であり、被処理物4が押し付けられる受け面6を内周部に有する筒状回転体3と、受け面6に近接するよう筒状回転体3の内部に配置したインナーピース5とを備えた粉体処理装置であって、受け面6とインナーピース5との間に形成する押圧部7に被処理物4を保持するための被処理物保持手段S1を有すると共に、押圧部7に保持された被処理物4の一部を、前記筒状回転体3が駆動回転している際に前記筒状回転体3の内包空間3aの外部に排除するための被処理物排除手段S2を有している。

請求項（抜粋）：

鉛直方向に沿った回転軸心の回りに回転自在であり、被処理物が押し付けられる受け面を内周部に有する筒状回転体と、前記受け面に近接するよう前記筒状回転体の内部に配置したインナーピースとを備えた粉体処理装置であって、前記受け面と前記インナーピースとの間に形成する押圧部に前記被処理物を保持するための被処理物保持手段を有すると共に、前記押圧部に保持された前記被処理物の一部を、前記筒状回転体が駆動回転している際に前記筒状回転体の内包空間の外部に排除するための被処理物排除手段を有している粉体処理装置。

IPC (4件)：

B01F 9/12 ,  B01F 15/00 ,  B02C 15/16 ,  B02C 17/00

FI (4件)：

B01F 9/12 ,  B01F 15/00 D ,  B02C 15/16 ,  B02C 17/00 Z

Fターム (20件)：

4D063EE01 ,  4D063EE11 ,  4D063EE21 ,  4D063FF03 ,  4D063FF21 ,  4D063FF37 ,  4D063GA02 ,  4D063GA05 ,  4D063GB07 ,  4D063GC14 ,  4D063GC27 ,  4D063GC31 ,  4D063GC40 ,  4D063GD12 ,  4D063GD27 ,  4G036AA22 ,  4G036AA23 ,  4G037DA21 ,  4G037DA30 ,  4G037EA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-066139
  
• 破砕造粒機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-176256   出願人：鐘紡株式会社, ベルフーズ株式会社
• 特開昭51-134972
  
• 特開昭57-165025