特許

J-GLOBAL ID：200903042766010296

浄化設備

発明者： 佐藤 八郎 ,  北井 良人 ,  岩橋 正修 ,  本田 和之
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-094093
公開番号（公開出願番号）：特開平7-299479
出願日： 1994年05月06日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】 設備コスト、運転コストの面で有利で、且つ、膜処理を経時的に良好な状態でおこなうことができる浄化設備を得る。【構成】 吸引ポンプ9によって被処理水を吸引して濾過膜Mを透過させて、前記被処理水を浄化する膜分離槽Eを備えた浄化槽100を設け、前記吸引ポンプ9により吸引された膜透過被処理水を地上高位に位置される給水部102に供給する揚水配管101を備えた浄化設備において、前記吸引ポンプ9を浄化槽側壁外部部位に設けるとともに、前記吸引ポンプ9の吸引部9a及び前記膜分離槽Eから前記吸引部9aまでの接続配管4、8を前記膜分離槽Eの最低水位より低い位置に配設する。

請求項（抜粋）：

吸引ポンプ(9)によって被処理水を吸引して濾過膜(M)を透過させて、前記被処理水を浄化する膜分離槽(E)を備えた浄化槽(100)を設け、前記吸引ポンプ(9)により吸引された膜透過被処理水を地上高位に位置される給水部(102)に供給する揚水配管(101)を備えた浄化設備であって、前記吸引ポンプ(9)を浄化槽側壁外部部位に設けるとともに、前記吸引ポンプ(9)の吸引部(9a)及び前記膜分離槽(E)から前記吸引部(9a)までの接続配管(4),(8)を前記膜分離槽(E)の最低水位より低い位置に配設した浄化設備。

IPC (3件)：

C02F 3/00 ZAB ,  C02F 1/44 ZAB ,  B01D 63/08

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 浄化槽汚泥の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-230060   出願人：三菱重工業株式会社