特許
J-GLOBAL ID：200903042769717510
ウレトジオン基及びイソシアヌレート基を含有するポリイソシアネート化合物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶 良之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-284752
公開番号（公開出願番号）：特開平10-077324
出願日： 1996年09月02日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ウレトジオン基及びイソシアヌレート基を含有するポリイソシアネート化合物の製造方法であって、工業的に採用でき、かつ着色の少ないポリイソシアネート化合物。【解決手段】 ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアネート基の0.1〜10モル%を少なくとも1種のアルコールと反応させてウレタン基を形成させる工程を行うか又は行はずに、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアネート基の一部を有機ホスフィン触媒の存在下でオリゴマー化する工程、触媒毒を添加することにより前記オリゴマー化反応を停止させる工程、過剰の未反応のヘキサメチレンジイソシアネートを1重量%以下まで蒸留により除去する工程で得られた蒸留残渣に炭素数4〜8個の飽和炭化水素化合物を加え、抽出操作を行い、下層を分離除去、並びに、前記飽和炭化水素を0.3重量%以下まで除去することによる製造方法。
請求項（抜粋）：
ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアネート基の0.1〜10モル%を少なくとも1種のアルコールと反応させてウレタン基を形成させる工程(a-1)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアネート基の一部を有機ホスフィン触媒の存在下でオリゴマー化する工程(b-1)、触媒毒を添加することにより前記オリゴマー化反応を停止させる工程(c-1)、過剰の未反応のヘキサメチレンジイソシアネートを1重量%以下まで蒸留により除去する工程(d-1)、前記工程(d-1)により得られた蒸留残渣に炭素数4〜8個の飽和炭化水素化合物を加え、抽出操作を行い、下層を分離除去する工程(e-1)、並びに、前記飽和炭化水素を0.3重量%以下まで除去する工程(f-1)のうち、前記工程(a-1)を実行するか又は実行せずに、前記工程(b-1)、前記工程(c-1)、前記工程(d-1)、前記工程(e-1)及び前記工程(f-1)をこの順に実行することを特徴とするウレトジオン基及びイソシアヌレート基を含有するポリイソシアネート化合物の製造方法。
IPC (2件)：
C08G 18/02 NDL
, C08G 18/79 NFL
C08G 18/02 NDL
, C08G 18/79 NFL
