特許
J-GLOBAL ID：200903042770040540
高周波再溶融処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
乗松 恭三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-262926
公開番号（公開出願番号）：特開2000-087211
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】【課題】 大径のリング材の外周面に形成された一次被覆層の高周波再溶融処理を小型の装置を用いて実施可能な方法及び装置を提供する。【解決手段】 リング材1を、その内周面の複数個所を支持する支持ローラ11A、11B、11Cに支持させ、そのリング材1の外周の一次被覆層5に対向して、一次被覆層5の小領域15を誘導加熱する誘導子14を配置し、誘導子14で小領域15の一次被覆層を溶融させると共にリング材1を定位置で回転させることで、その溶融部分を周方向に移動させて全周を再溶融処理し、一次被覆層内の気孔や酸化物を除去し、緻密な二次被覆層とする。
請求項（抜粋）：
リング材の外周面又は内周面に溶射法等を用いて形成した金属材料の一次被覆層に対して高周波再溶融処理を行う方法であって、前記一次被覆層の周方向の小領域を誘導加熱しうる誘導子を前記リング材外周面又は内周面に対向して配置し、前記リング材を外径の拡大を妨げない形で支持して定位置で回転させることにより、前記一次被覆層の周方向の小領域を誘導加熱して溶融させると共にその誘導加熱されて溶融する部分を前記一次被覆層の周方向に相対的に移動させ、前記一次被覆層の全周に亘って、該一次被覆層に存在していた気孔及び酸化物を除去し、緻密な二次被覆層にすることを特徴とする高周波再溶融処理方法。
Fターム (5件)：
4K031AA01
, 4K031AB08
, 4K031AB09
, 4K031EA03
, 4K031FA02
