特許
J-GLOBAL ID：200903042772554931
エッチング方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-327907
公開番号（公開出願番号）：特開平6-181188
出願日： 1992年12月08日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：
【要約】【目的】 特定膜質の酸化膜のみを選択的に除去する気相HFエッチング方法とエッチング装置を提供する。【構成】 排気口32に接続する真空ポンプにより減圧状態に保たれた内部反応管12にエッチング用HFガスが加熱され供給される。この時、フランジ14には複数のウェハー23を積層状に保持するためのボート18が載せられる。このウェハー上に膜質の異なる酸化膜が存在した場合、特定膜質の酸化膜のみを選択エッチングする。
請求項（抜粋）：
HFガスあるいはHF/H2 Oガスを含むエッチングガスでウェハー上のシリコン酸化膜のエッチングを室温で行うエッチング方法において、シリコン酸化膜の膜質や膜中不純物に起因するエッチングレート差を大きくし選択的に特定膜質の酸化膜エッチングを行うため、エッチングガスを減圧状態にし、一定の水分分圧以下に保つことを特徴とするエッチング方法。
引用特許：
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