特許
J-GLOBAL ID：200903042778630222
収束イオンビーム質量分析方法及び収束イオンビーム質量分析複合装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-241578
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082081
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【目的】 収束イオンビーム装置と質量分析計を複合した構成を有し、同一装置で試料のエッチング又は膜付け等の前処理を行い、その後で質量分析を行って高精度の分析結果を得る。【構成】 液体金属イオン源から出射した一次イオンはコンデンサレンズと対物レンズにより試料上に収束される。このビームは偏向電極及び制御装置等により任意の形にエッチングを行う。このときエッチングガスを同時に導入するとエッチング速度を増すことができると同時に材料による選択エッチングもできる。また必要に応じて、デポジションガスを導入して膜付けを行う。この後、二次イオン質量分析又は中性粒子のポストイオン化による質量分析を行う。こうしてエッジ効果のない高精度の深さ方向分析を可能とする。
請求項（抜粋）：
試料における分析対象部分の周縁の非分析部分に対しイオンエッチング又はイオンビームによる膜形成のいずれかを行い、その後、前記分析対象部分に対しスパッタリングを行い、スパッタリング粒子の質量分析を行うことを特徴とする収束イオンビーム質量分析方法。
IPC (3件)：
H01J 49/26
, G01N 23/225
, H01J 49/06
