特許
J-GLOBAL ID：200903042783440741
マルチチャンバプロセス装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-017674
公開番号（公開出願番号）：特開平8-213442
出願日： 1995年02月06日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】【構成】所定のプロセスを行うためのプロセス装置1およびプロセス装置1の位置を変えるための上下機構2が設置されたプロセスチャンバ3と、ウエハを他のプロセスチャンバ3に搬送するためのウエハ搬送機構4が設置されているトランスファチャンバ5と、プロセスチャンバ3とトランスファチャンバ5の間に、それぞれゲートバルブ6a,6bを介して接続され、ウエハ移載機構7が設置されたバッファチャンバ8からなる。【効果】スループットを極限まで高めることが可能であり、プロセス条件の変動および塵埃によるウエハ汚染を防止し、均質かつクリーンなプロセスを行うことが可能となる。
請求項（抜粋）：
大気から隔離された雰囲気に維持し、ウエハの第一の搬送機構を備えたトランスファチャンバに、複数のプロセスチャンバをゲートバルブを介して接続して構成されるマルチチャンバプロセス装置において、前記トランスファチャンバと前記複数の各プロセスチャンバの間に、前記トランスファチャンバと前記プロセスチャンバ間に前記ウエハを搬送する第二の搬送機構と、真空排気およびプロセスガスの供給機能を備えたバッファチャンバを一あるいは複数設置して、前記バッファチャンバ内の雰囲気を、前記ウエハの搬送先の雰囲気に一致させるための雰囲気変換を行うことによって、前記プロセスチャンバの雰囲気を一定に維持し、前記ウエハの搬送時間を除く全ての稼働時間を、実プロセス時間に用いるように雰囲気を制御する雰囲気制御手段を有することを特徴とするマルチチャンバプロセス装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, C23C 14/56
, H01L 21/02
