特許
J-GLOBAL ID:200903042787033598
閾値マトリクス、及びそれを利用した階調再現方法とその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-112144
公開番号(公開出願番号):特開2001-298617
出願日: 2000年04月13日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】【課題】 組織的ディザ法の簡便な処理方法で、非常に高度な画質が要求される場合においても、視覚的に好ましい出力画像を得られる閾値マトリクス、及びそれを使用した階調再現方法とその装置を提供を目的とする。【解決手段】 ある階調をあらわすドットパターンの各ドットに斥力ポテンシャルを付与することによって、隣接する階調をあらわすドットパターンを定めるためのドット位置を決定する処理を各階調で行うことにより閾値マトリクスを作成し、前記閾値マトリクスを用いて、前記閾値マトリクスの大きさに対応する一様濃度の入力画像を階調変換処理した場合に、中間階調部の多くの階調で、等方的、非周期的かつ低周波成分の少ないドットパターンを持ち、最低階調近傍あるいは最高階調近傍の少なくとも一方で、非等方的で、周期的または疑似周期的なドットパターンを持つことを特徴とする。
請求項(抜粋):
原画の各画素と閾値マトリクスの各要素とを1対1に対応させて出力画の個々の画素における濃度を二値あるいは多値で表現する階調再現方法において、ある階調をあらわすドットパターンの各ドットに斥力ポテンシャルを付与することによって、隣接する階調をあらわすドットパターンを定めるためのドット位置を決定する処理を各階調で行うことにより前記閾値マトリクスを作成し、前記閾値マトリクスを用いて、前記閾値マトリクスの大きさに対応する一様濃度の入力画像を階調変換処理した場合に、中間階調部の多くの階調で、等方的、非周期的かつ低周波成分の少ないドットパターンを持ち、最低階調近傍あるいは最高階調近傍の少なくとも一方で、非等方的で、周期的または疑似周期的なドットパターンを持つことを特徴とする階調再現方法。
IPC (5件):
H04N 1/405
, G06T 5/00 200
, H04N 1/52
, G09G 3/20 641
, G09G 3/36
FI (5件):
G06T 5/00 200 A
, G09G 3/20 641 G
, G09G 3/36
, H04N 1/40 C
, H04N 1/46 B
Fターム (42件):
5B057AA11
, 5B057CA01
, 5B057CA02
, 5B057CA08
, 5B057CB01
, 5B057CB02
, 5B057CB07
, 5B057CE13
, 5C006AA02
, 5C006AA12
, 5C006AF23
, 5C006BB11
, 5C006BF02
, 5C006FA22
, 5C077LL03
, 5C077MP01
, 5C077MP08
, 5C077NN09
, 5C077PP48
, 5C077PQ12
, 5C077PQ17
, 5C077RR02
, 5C077RR09
, 5C077RR11
, 5C077TT05
, 5C079LA02
, 5C079LA12
, 5C079LC05
, 5C079MA01
, 5C079MA11
, 5C079NA02
, 5C079NA03
, 5C079NA05
, 5C079NA06
, 5C080BB05
, 5C080DD05
, 5C080EE29
, 5C080GG09
, 5C080JJ01
, 5C080JJ02
, 5C080JJ05
, 5C080JJ07
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