特許

J-GLOBAL ID：200903042789986215

感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたフォトリソグラフィ

発明者： 木村 徹 ,  横山 泰明 ,  佐藤 穂積 ,  五十嵐 勝利
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-104038
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290265
出願日： 2000年04月05日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：

【要約】【課題】 シリコンウエーハ基板等にホールを穿つドライエッチングに耐えられる低温クラック耐性のある厚膜のマスクパターンが得られる感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたフォトリソグラフィを提供すること。【解決手段】(A)アルカリ可溶性共重合体100重量部に対して、(B)一般式(1)で示される化合物7〜38重量部CH2=CR1COOCH2CH(OH)CH2-R3-CH2-CH(OH)CH2-OCOCR2=CH2 (1)(C)一分子中に(メタ)アクリロイルオキシ基を3〜6個有する化合物2〜25重量部及び(D)放射線重合開始剤10〜50重量部を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物及び-20°C以下に冷却してドライエッチングするフォトリソグラフィ。

請求項（抜粋）：

(A)ガラス転移温度(Tg)の少なくとも一つが100°C以下であるアルカリ可溶性共重合体100重量部に対して、(B)一般式(1)で示される化合物7〜38重量部CH2=CR1COOCH2CH(OH)CH2-R3-CH2-CH(OH)CH2-OCOCR2=CH2 (1)(ここでR1、R2は、各々独立に水素原子又はメチル基であり、R3は 化学式-CnH2nOm- (nは2〜20,mは2〜10の整数から選ばれる)で示される2価の有機基を表す。)(C)一分子中に(メタ)アクリロイルオキシ基を3〜6個有する化合物2〜25重量部(但し、(B)+(C)=15〜55重量部)、及び(D)放射線重合開始剤10〜50重量部、を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 541 P ,  H01L 21/302 H

Fターム (37件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA13 ,  2H025AA16 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC43 ,  2H025BC65 ,  2H025BC82 ,  2H025BC83 ,  2H025BC86 ,  2H025BJ00 ,  2H025CA00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB60 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA41 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA18 ,  5F004DB01 ,  5F004DB23 ,  5F004EA30 ,  5F056DA04