特許
J-GLOBAL ID:200903042797331694

潜伏性触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-082007
公開番号(公開出願番号):特開2003-277510
出願日: 2002年03月22日
公開日(公表日): 2003年10月02日
要約:
【要約】【課題】 常温において長期間にわたって樹脂組成物を安定に保存することが可能であり、成形時に優れた触媒作用を発現して、良好な硬化性及び高品質の成形品を与えることができる潜伏性触媒を、穏和な条件下で安価原料から高収率で提供する。【解決手段】 一般式[1]で表されるオニウム塩(A)と、一般式[2]で表される、分子外に放出しうるプロトンを少なくとも2個以上分子内に有するn(n≧2)価のプロトン供与体(B)と、ホウ酸エステル類(C)とを、溶媒中で反応させることを特徴とする一般式[3]で表される潜伏性触媒(D)の製造方法、【化1】【化2】
請求項(抜粋):
一般式[1]【化1】(但し、式[1]中、Q+は、芳香環若しくは複素環を有する有機基又は脂肪族基を有する1価の有機カチオンを示し、X-はハロゲン原子又は水酸基を示す。)で表されるオニウム塩(A)と、一般式[2]【化2】(式[2]中、Z1は、置換基Y1,Y2を有する有機基を示し、Y1,Y2は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出してなる基を示し、同一分子内の置換基Y1,Y2がホウ素原子と結合してキレート構造を形成しうるものである。)で表される、分子外に放出しうるプロトンを少なくとも2個以上分子内に有するn(n≧2)価のプロトン供与体(B)と、ホウ酸エステル類(C)とを、溶媒中で反応させることを特徴とする一般式[3]で表される潜伏性触媒(D)の製造方法。【化3】(但し、式[3]中、Q+は、芳香環若しくは複素環を有する有機基又は脂肪族基を有し、中心原子がリン、窒素、イオウ、炭素原子から構成される1価の有機カチオンを示す。また、式中Z2は、置換基Y3,Y4を有する有機基を示し、Y3,Y4は、1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出してなる基を示し、同一分子内の置換基Y3,Y4がホウ素原子と結合してキレート構造を形成しうるものである。式中Z3は、置換基Y5,Y6を有する有機基を示し、Y5,Y6は1価のプロトン供与性置換基がプロトンを放出してなる基を示し、同一分子内の置換基Y5,Y6がホウ素原子と結合してキレート構造を形成しうるものである。Z2,Z3は互いに同一でも異なっていてもよく、Y3,Y4,Y5,Y6は互いに同一でも異なっていてもよい。)
IPC (7件):
C08G 85/00 ,  C07C211/64 ,  C07C381/12 ,  C07F 5/02 ,  C07F 9/50 ,  C07F 9/54 ,  C07F 19/00
FI (7件):
C08G 85/00 ,  C07C211/64 ,  C07C381/12 ,  C07F 5/02 C ,  C07F 9/50 ,  C07F 9/54 ,  C07F 19/00
Fターム (17件):
4H006AA02 ,  4H006AB40 ,  4H006AC52 ,  4H006AC60 ,  4H048AA02 ,  4H048AB40 ,  4H048BB14 ,  4H048BB20 ,  4H048VA20 ,  4H048VA45 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10 ,  4H050AA02 ,  4H050AB40 ,  4H050BB14 ,  4H050BB20 ,  4J031CB06

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