特許
J-GLOBAL ID：200903042814563260
位置合わせ方法、薄膜形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
石島 茂男
, 阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-129623
公開番号（公開出願番号）：特開2008-287935
出願日： 2007年05月15日
公開日（公表日）： 2008年11月27日
要約：
【課題】マスク交換後の作業時間を短縮させる。【解決手段】マスクホルダ上のマスクを撮影し、撮影画像と、候補パターン群に登録されたパターン形状を比較し、登録されたパターン形状毎に一致確率を算出し、一致確率が基準値以上のパターン形状のうち、最大の一致確率のパターン形状を基準パターン形状とし、マスクと基板の位置合わせに用いる。基準値以上の一致確率のパターン形状が無かった場合、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出し、候補パターン群に追加登録する。マスクを交換しても、候補パターン群に一致するパターンが無かった場合だけ、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出すればよいから、マスク交換のための作業時間が短縮する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
マスクアラインメントマークのパターン形状をマスク基準パターン形状として記憶しておき、
マスクを撮影し、得られた撮影画像の中から前記マスク基準パターン形状と一致するパターン形状を検出し、検出されたパターン形状の位置を、撮影された前記マスクの前記マスクアラインメントマークの位置とし、
前記マスクアラインメントマークの位置と、基板が有する基板アラインメントマークの位置とから、前記マスクと前記基板とを位置合わせする位置合わせ方法であって、
候補パターン群に複数の異なるマスクアラインメントマークのパターン形状を登録しておき、
前記撮影画像と、前記候補パターン群に登録された前記パターン形状とを比較し、前記撮影画像中に、登録された前記パターン形状が含まれる確率である一致確率を、前記登録された前記パターン形状毎に算出し、
前記一致確率が最大のパターン形状を前記マスク基準パターン形状として選択して記憶する位置合わせ方法。
IPC (7件)：
H05B 33/10
, C23C 14/12
, C23C 14/24
, C23C 14/50
, C23C 14/04
, C23C 14/56
, H01L 51/50
H05B33/10
, C23C14/12
, C23C14/24 G
, C23C14/50 F
, C23C14/04 A
, C23C14/56 J
, H05B33/14 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC45
, 3K107GG04
, 3K107GG33
, 3K107GG54
, 4K029HA04
