特許

J-GLOBAL ID：200903042818788290

ポジ型感光性樹脂組成物及び電子部品の製造法

発明者： 山崎 範幸
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-149945
公開番号（公開出願番号）：特開平11-338154
出願日： 1998年05月29日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】本発明は、i線等に対する感度が高く、半導体素子等の電子部品の製造工程におけるポジ型のホトレジストの一般的なアルカリ現像液を用いて、露光部の溶解度及び未露光部の残膜率が共に高い現像が可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ水溶液可溶性のポリイミド、その前駆体、ポリオキサゾール又はその前駆体、(B)o-キノンジアジド化合物及び(C)光により分解して酸を発生する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、及び該ポジ型感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程及び加熱処理する工程を含む方法により層間絶縁膜又は表面保護膜を形成することを特徴とする電子部品の製造法。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ水溶液可溶性のポリイミド、その前駆体、ポリオキサゾール又はその前駆体、(B)o-キノンジアジド化合物及び(C)光により分解して酸を発生する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/037 501 ,  H01L 21/30 502 R