特許

J-GLOBAL ID：200903042826718650

高さ測定方法

発明者： 掛水 孝彦
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (4件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  村松 貞男 ,  風間 鉄也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-206519
公開番号（公開出願番号）：特開2005-055217
出願日： 2003年08月07日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：

【課題】高さ測定するサンプリング範囲を小さくして測定のタクトを短縮すること。【解決手段】複数の測定エリアQ1〜Q9における半導体ウエハ表面20からバンプ21の頂点までの高さ測定を順次行なうとき、これら測定エリアQ1〜Q9毎に、差分Δ又は差分Δ1〜Δ8だけバンプ21の高さ測定するときの最適サンプリング範囲α3を半導体ウエハ表面20に対してオフセットする。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

試料の高さ方向に所定のサンプリング範囲で所定ピッチ毎にサンプリングを行なって前記試料の画像データを取得し、この画像データから前記試料の高さを測定する高さ測定方法において、 前記試料を複数の測定エリアに分割し、これら測定エリアにおける前記試料の高さ測定を行なうとき、複数の前記測定エリアでの高さ測定毎に、前回高さ測定した前記測定エリアの基準面の高さと今回高さ測定する前記測定エリアの基準面の高さとの差分を求め、この差分だけ前記試料の高さ方向に対する前記サンプリング範囲をオフセットすることを特徴とする高さ測定方法。

IPC (1件)：

G01B11/02

FI (1件)：

G01B11/02 H

Fターム (26件)：

2F065AA04 ,  2F065AA24 ,  2F065AA35 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065CC19 ,  2F065CC26 ,  2F065DD06 ,  2F065FF10 ,  2F065FF49 ,  2F065FF51 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL29 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25