特許

J-GLOBAL ID：200903042827453099

光学薄膜体及びその製造方法

発明者： 大谷 正之
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-345779
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149436
出願日： 2001年11月12日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】 従来技術のように光の干渉が発生せず、かつ、光の吸収が極めて少ない光学薄膜体を提供する。【解決手段】 2酸化シリコンで形成された基板1の上には、5酸化タンタルで形成された保持薄膜2が形成されている。保持薄膜2は、図に示すように、断面が裁頭楔型の形状をしている。そして、その上に、2酸化シリコンと5酸化タンタルを交互に積層して所定の光学特性を持たせた光学薄膜3が、その積層界面を、保持薄膜2の上面と平行にして形成されている。このように、保持薄膜の断面が裁頭楔型をしているので、光学薄膜3と保護薄膜2のとの境面で反射された光の進行方向と、保護薄膜3の裏側(図の下側)で反射された光の進行方向が異なり、両者が干渉することがない。基板1は、光学特性には何らの影響を及ぼさない。保護薄膜2は薄いので、光の減衰はほとんど無い。

請求項（抜粋）：

開口部を有する基板と、当該基板の開口部を跨ぐように形成され当該基板に固着された、断面が楔状又は裁頭楔状の保持薄膜と、当該保持薄膜の上に形成され当該保持薄膜に固着された、多層膜からなり所定の光学特性を有する光学薄膜とを有する光学薄膜体。

IPC (3件)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/22 ,  G02B 5/26

FI (3件)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/22 Z ,  G02B 5/26

Fターム (21件)：

2H048FA05 ,  2H048FA12 ,  2H048FA21 ,  2H048FA24 ,  2H048GA04 ,  2H048GA13 ,  2H048GA21 ,  2H048GA33 ,  2H048GA51 ,  2H048GA62 ,  4K029AA08 ,  4K029AA09 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BB01 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029CA15