特許
J-GLOBAL ID：200903042827646628
レーザマーキング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
神崎 真一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-207123
公開番号（公開出願番号）：特開平6-031654
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：
【要約】【構成】 レーザマーキング装置は、レーザ発振器1として不安定型のエキシマレーザ発振器を用いており、また被加工物4をレーザ光線Lの光軸に沿って移動させる加工位置調整手段8を備えている。【効果】 不安定型のエキシマレーザ発振器を用いているので、マスク2を透過したレーザ光線Lの回折の度合いを小さくすることができる。そのため、いわゆる結像の公式によることなく、被加工物4の加工位置を決定することができる。そのため、被加工物4に施す印字の大きさを変更する際には、加工位置調整手段8によって被加工物4の加工位置だけを調整するだけでよく、したがって、被加工物4の加工位置だけでなくマスク2の位置調整が必要であった従来に比較して調整作業が簡略になる。
請求項（抜粋）：
レーザ光線を放射するレーザ発振器と、上記レーザ発振器から放射されるレーザ光線の光路上に設けられて所要の印字パターンを有するマスクと、上記マスクを透過したレーザ光線の光路上に配設されて、該レーザ光線を集光する集光レンズとを備え、上記集光レンズによって集光したレーザ光線を被加工物に照射して該被加工物に所要の印字パターンをマーキングするレーザマーキング装置において、上記レーザ発振器を不安定型のレーザ発振器から構成するとともに、レーザ光線の光軸に沿って上記被加工物を移動させる加工位置調整手段を設けたことを特徴とするレーザマーキング装置。
引用特許：
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