特許

J-GLOBAL ID：200903042828380591

露光装置

発明者： 藤塚 清治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 前田 均 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-287661
公開番号（公開出願番号）：特開2001-110708
出願日： 1999年10月08日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：

【要約】【課題】 露光データ作成の時間を短縮して作業効率の向上を図ることができるとともに、ショットの重合部において露光量を傾斜的な分布とするか否かの判断の自動化を図り、その結果として品質の高い半導体集積回路又は液晶表示素子等を製造することのできる露光装置を提供する。【解決手段】 露光データ処理装置の露光データ19に基づいて、レチクル10に形成されたパターンの投影像の一部を重ね継ぎ露光しながら所望のパターンを基板Wに形成する露光装置であって、露光データ19は各露光処理についての基板W上での露光領域を示す複数のショットの位置と大きさを含み、露光データ19に基づいて、ショットの各辺について前記重ね継ぎ露光を行うか否かを判別する判別装置18を備えている。

請求項（抜粋）：

露光データ処理装置の露光データに基づいて、マスクに形成されたパターンの投影像の一部を重ね継ぎ露光しながら所望のパターンを基板に形成する露光装置において、前記露光データは各露光処理についての前記基板上での露光領域を示す複数のショットの位置と大きさを含み、前記露光データに基づいて、前記ショットの各辺について前記重ね継ぎ露光を行うか否かを判別する判別装置を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22

FI (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 Z ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 516 D

Fターム (21件)：

2H097AA12 ,  2H097BB01 ,  2H097GB01 ,  2H097GB02 ,  2H097JA01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046DA02 ,  5F046DA06 ,  5F046DA30 ,  5F046DB01 ,  5F046DB12 ,  5F046DC02