特許
J-GLOBAL ID：200903042849467883
真空処理装置およびその運転方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-234408
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074739
出願日： 1991年09月13日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：
【要約】【構成】内部のクリーニング処理が必要な真空処理室を有する真空処理装置およびその運転方法において、真空処理室のドライクリーニングにあたっては、被処理基板収納手段と一緒に大気雰囲気中に設置されたダミー基板収納手段から基板搬送手段によってダミー基板を真空処理室内に搬送し、ガスプラズマを発生させて真空処理室内をドライクリーニングする。ドライクリーニング後は、ダミー基板をダミー基板収納手段へ戻す。【効果】クリーニング専用の機構を必要とせず装置構成を簡単にでき、また、ドライクリーニング処理に使用されたダミー基板と被処理基板との混在をなくしてゴミの発生や残留ガスなどによる被処理基板の汚染を防止でき高い製品歩留まりを実現できる。
請求項（抜粋）：
被処理基板を真空下で処理した後、内部のドライクリーニング処理が行なわれる真空処理室を有する真空処理装置において、前記被処理基板を収容する第1の収納手段とともにダミー基板を収容する第2の収納手段を大気雰囲気中に設置し、前記第1の収納手段と前記真空処理室との間で前記被処理基板を搬送するとともに前記第2の収納手段と前記真空処理室との間で前記ダミー基板を搬送する搬送手段と、前記真空処理室のドライクリーニング時に前記ダミー基板を前記第2の収納手段と前記真空処理室との間で搬送するように前記搬送手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
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