特許

J-GLOBAL ID：200903042876049783

真空処理装置

発明者： 堀江 邦明 ,  阿部 祐士 ,  柴崎 光直 ,  塚本 究
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255467
公開番号（公開出願番号）：特開2001-070781
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 チャンバ内の圧力を分子流領域まで下げることなく、パーティクルによる基板の汚染を防止できるようにした真空処理装置を提供する。【解決手段】 個別に排気可能な少なくとも2つの真空チャンバ12,14と、これらを連絡する搬送経路18と、該搬送経路を開閉するゲートバルブ16とを備え、前記2つの真空チャンバ間には、これらのチャンバ間の圧力をバランスさせるためのバランスパイプ40が開閉弁を介して設けられている。

請求項（抜粋）：

個別に排気可能な少なくとも2つの真空チャンバと、これらを連絡する搬送経路と、該搬送経路を開閉するゲートバルブとを備え、前記2つの真空チャンバ間には、これらのチャンバ間の圧力をバランスさせるためのバランスパイプが開閉弁を介して設けられていることを特徴とする真空処理装置。

IPC (3件)：

B01J 3/02 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/44

FI (3件)：

B01J 3/02 L ,  C23C 14/56 G ,  C23C 16/44 B

Fターム (5件)：

4K029DA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030GA12 ,  4K030KA11