ドライエッチング装置及びエッチング方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-315851
公開番号（公開出願番号）：特開2004-152960
出願日： 2002年10月30日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：

【課題】低コスト且つ比較的容易に、所望の方向と角度で斜めエッチングを可能にするドライエッチング装置とそれを用いたエッチング方法を提供することを目的とする。【解決手段】ドライエッチング装置100は、チャンバー10と、加工基材コントロールユニット20と、高周波発振器41、整合器42及びブロッキングコンデンサ43を備えたプラズマ発生手段40と、高周波発振器51、整合器52及びプラズマ発生用コイル(アノード電極)53を備えたプラズマ発生手段50と、ガス供給口11と、排気口12と、真空排気機構60とを備えており、プラズマ処理中に被エッチング基材を傾斜、回転できる被エッチング基材ントロールユニット20を備えているのが特徴である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくともプラズマ発生手段(40、50)と、チャンバー(10)と、傾斜角及び回転制御機構(21)、回転ユニット(22)、傾斜角制御機構(23)及びステージ(24)からなる加工基材コントロールユニット(20)と、ガス供給口(11)と、排気口(12)と、真空排気機構(60)とを備えていることを特徴とするドライエッチング装置。

IPC (1件)：

H01L21/3065

FI (1件)：

H01L21/302 105A

Fターム (15件)：

5F004AA05 , 5F004AA12 , 5F004BB13 , 5F004BB24 , 5F004BB32 , 5F004BD03 , 5F004CA05 , 5F004CA06 , 5F004DA01 , 5F004DA04 , 5F004DB03 , 5F004EA19 , 5F004EA37 , 5F004EB01 , 5F004EB04

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