特許
J-GLOBAL ID:200903042885671977

希土類磁石及び希土類磁石の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木森 有平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-107998
公開番号(公開出願番号):特開2005-294558
出願日: 2004年03月31日
公開日(公表日): 2005年10月20日
要約:
【課題】 希土類磁石の製造工程を大幅に簡略化し、同時に、表面の加工劣化層を回復させる。【解決手段】 磁石素体の表面に耐候性表面被膜を形成した後、熱処理を行う。耐候性表面被膜の融点は、熱処理温度以上とする。希土類元素を含有する回復用被膜を形成した後、耐候性表面被膜を形成してもよい。耐候性表面被膜は、Ni、Si、Al合金、Au、Ptのいずれか1種を含む。磁石素体はNdFeB系希土類焼結磁石である。磁石素体の厚さは2mm以下である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
磁石素体の表面に耐候性表面被膜が形成され、当該耐候性表面被膜が成膜界面において拡散されていることを特徴とする希土類磁石。
IPC (4件):
H01F1/053 ,  C21D6/00 ,  H01F1/08 ,  H01F41/02
FI (4件):
H01F1/04 H ,  C21D6/00 B ,  H01F1/08 B ,  H01F41/02 G
Fターム (10件):
5E040AA04 ,  5E040BC01 ,  5E040CA01 ,  5E040HB11 ,  5E040HB14 ,  5E040NN06 ,  5E040NN18 ,  5E062CD04 ,  5E062CG05 ,  5E062CG07
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (12件)
全件表示

前のページに戻る