特許

J-GLOBAL ID：200903042894522380

高分子微多孔材料の製造方法

発明者： 中野 充 ,  毛利 登美子 ,  臼杵 有光
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-193355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-019790
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】 新規な高分子微多孔材料の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の高分子微多孔材料の製造方法は、テンプレート化合物(1)と、テンプレート化合物(1)と弱い相互作用が可能な前駆体ポリマー(2)とからなる複合体によりミクロ相分離構造(4)を形成させ、形成されたミクロ相分離構造(4)を維持しつつ、前駆体ポリマー(2)をマトリックスポリマー(3)に変化させ、かつテンプレート化合物(1)を除去することにより、高分子微多孔材料を製造することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

テンプレート化合物と、前記テンプレート化合物と弱い相互作用が可能な前駆体ポリマーとからなる複合体によりミクロ相分離構造を形成させ、前記形成されたミクロ相分離構造を維持しつつ、前記前駆体ポリマーをマトリックスポリマーに変化させ、かつ前記テンプレート化合物を除去することにより、高分子微多孔材料を製造する方法。

IPC (4件)：

C08J 9/26 102 ,  C08J 9/26 CFG ,  C08L 79:08 ,  C08L101:08

FI (2件)：

C08J 9/26 102 ,  C08J 9/26 CFG

Fターム (6件)：

4F074AA74 ,  4F074CB02 ,  4F074CB16 ,  4F074CB17 ,  4F074CB22 ,  4F074DA14