特許
J-GLOBAL ID：200903042901068321
排ガスの乾式吸着処理方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-347165
公開番号（公開出願番号）：特開平7-185256
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：
【要約】【目的】 高価な検知機や定期校正の手間がいらず、吸着剤を100%活用することができ、かつ安全に半導体や液晶の製造装置から排出される排ガスの処理ができる乾式吸着処理方法及び装置を提供する。【構成】 排ガス中の有害物質を吸着剤により除害する乾式吸着処理方法において、該吸着剤を備えた2基の反応槽1、2を流路変更可能8〜12に且つ直列に連結し、後段の反応槽2重量を測定4することにより前段の反応槽1の破過を検知6して、破過検知時には該前段の反応槽1を更新するとともに、前記後段の反応槽2と前段の反応槽1の被処理ガス通過順序が逆となるようにガスの流路を変更8〜12して処理するものである。
請求項（抜粋）：
排ガス中の有害物質を吸着剤により除害する乾式吸着処理方法において、該吸着剤を備えた2基の反応槽を流路変更可能に且つ直列に連結し、後段の反応槽重量を測定することにより前段の反応槽の破過を検知して、破過検知時には該前段の反応槽を更新するとともに、前記後段の反応槽と前記前段の反応槽の被処理ガス通過順序が逆となるようにガスの流路を変更して処理することを特徴とする排ガスの乾式吸着処理方法。
IPC (4件)：
B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/81 ZAB
, B01D 53/04 ZAB
, H01L 21/205
