特許
J-GLOBAL ID：200903042907573281
基板処理システムおよび基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-063360
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261685
出願日： 1997年03月17日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】 上方搬送機構部が用いられるクリーンルーム内において近接配置が可能な基板処理装置および基板処理システムを提供する。【解決手段】 基板搬入搬出部Dのカセット載置部5の側面5aにカセット支持台10を設ける。カセット支持台10は開閉自在に設けられ、開放時に上方搬送機構部11から下降される搬送容器15を支持し、搬送容器15内のカセット16のカセット載置部5への受け渡しを可能とし、処理済みのカセット16の搬送容器15内への収納を可能とする。カセット支持台10の閉鎖時には、カバー部材9の開口部9aを閉鎖し、基板搬入搬出部Dの内部空間18内に外気が侵入するのを防止する。カセット載置台10は、上部搬送機構部11の搬送容器15の到着に応じて開閉される。
請求項（抜粋）：
基板を収納した基板収納容器を室内の上方に配設されたレールに沿って搬送する搬送機構部と、前記搬送機構部との間で受け渡される前記基板収納容器を支持する載置面を有する基板搬入搬出部を備えた基板処理装置とを有し、前記基板処理装置は、前記基板収納容器を一時的に支持するとともに前記基板搬入搬出部から外方に突出した位置と前記基板搬入搬出部に収納された位置とを移動可能な支持部材を有することを特徴とする基板処理システム。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, B65G 1/00 535
, B65G 49/07
, H01L 21/02
H01L 21/68 A
, B65G 1/00 535
, B65G 49/07 L
, H01L 21/02 D
