特許
J-GLOBAL ID:200903042914362717

荷電粒子線光学系及び電子光学系

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡部 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-045811
公開番号(公開出願番号):特開2001-237161
出願日: 2000年02月23日
公開日(公表日): 2001年08月31日
要約:
【要約】【課題】 荷電粒子線の衝突や吸収による温度上昇が少ないアパーチャを有し、構造が簡単で温度制御が容易な荷電粒子線光学系を提供する。【解決手段】 本発明の荷電粒子線光学系のシェーピングアパーチャ9は、荷電粒子線がほとんど吸収されることなく散乱されて通過する導体薄膜からなる。さらに、シェーピングアパーチャ9より下流側の、成形された荷電粒子線束がクロスオーバーを形成する位置に、厚肉導体からなる遮蔽アパーチャ15を有する。シェーピングアパーチャ9から下方に向かって散乱された荷電粒子は、遮蔽アパーチャ15で遮蔽され、散乱された荷電粒子がウエハ27に達することを防ぐ。
請求項(抜粋):
荷電粒子線源から放射される荷電粒子線束を成形するシェーピングアパーチャを含む荷電粒子線光学系であって;該シェーピングアパーチャは、荷電粒子線がほとんど吸収されることなく散乱されて通過する導体薄膜からなり、さらに、該シェーピングアパーチャより下流側の、該成形された荷電粒子線束がクロスオーバーを形成する位置に、該クロスオーバーの寸法と同程度の大きさの開口を有し、厚肉導体からなる遮蔽アパーチャを有することを特徴とする荷電粒子線光学系。
IPC (5件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/305
FI (5件):
G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/09 A ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B
Fターム (17件):
2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5C033BB01 ,  5C033BB02 ,  5C034BB05 ,  5C034BB07 ,  5F056AA04 ,  5F056AA06 ,  5F056CB09 ,  5F056CC11 ,  5F056CD05 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05

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