特許
J-GLOBAL ID:200903042922691398

液晶表示装置の製造方法および成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-070781
公開番号(公開出願番号):特開平9-258247
出願日: 1996年03月26日
公開日(公表日): 1997年10月03日
要約:
【要約】【課題】 有機絶縁膜上にITO膜からなる画素電極を形成する液晶表示装置において、エッチング時のパターニング精度の良いITO膜を形成する。【解決手段】 有機絶縁膜10上にITO膜11を形成し、その後ITO膜11を形成した基板を成膜温度以下で一定時間保持することによりITO膜11に対する熱処理を行う。ITO膜11の保持は、成膜装置内の成膜室内または基板の搬送経路において成膜室の後に設けられた熱処理室内で行われる。
請求項(抜粋):
一対の絶縁性基板と、該一対の絶縁性基板の間に封入された液晶とを備えており、該一対の絶縁性基板の一方には、マトリクス状に配置されたスイッチング素子と、該スイッチング素子を制御する互いに直交するように配置されたゲート信号線及びデータ信号線と、該ゲート信号線および該データ信号線の上方に有機絶縁膜を介して形成された画素電極とが設けられている液晶表示装置の製造方法であって、該有機絶縁膜上に透明導電膜を形成する工程と、形成された該透明導電膜に対して成膜温度以下の温度で熱処理を行う工程と、該熱処理後に該透明導電膜をパターニングして該画素電極を形成する工程とを包含している、液晶表示装置の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/1343 ,  G02F 1/1333 505 ,  G09F 9/30 338
FI (3件):
G02F 1/1343 ,  G02F 1/1333 505 ,  G09F 9/30 338 C

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