特許
J-GLOBAL ID：200903042926695576
ファブリペロー干渉計およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
伊藤 洋二
, 三浦 高広
, 水野 史博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-051720
公開番号（公開出願番号）：特開2009-210312
出願日： 2008年03月03日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】アパーチャとして機能させるための金属層やドーピング層を用いなくても、アパーチャの光遮断能力を高めることができるファブリペロー干渉計を提供する。【解決手段】半導体基板11の他方の面11bのうち透過領域40に対応する領域に、半導体基板11を通過する光をこの光の進行方向と同じ方向に射出する射出面11cを設けると共に、半導体基板11の他方の面11bのうちアパーチャ部41に対応する領域に、当該領域から射出される光を透過領域40から遠ざける方向に屈折させる傾斜面11eを設ける。これにより、透過領域40の周囲の光を傾斜面11eによって透過領域40からアパーチャ部41に遠ざけることが可能となり、アパーチャのための金属層やドーピング層を設けることなく傾斜面11eを実質的にアパーチャとして機能させることができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板(11)と、前記基板(11)の一方の面(11a)に設けられ、光を特定の波長に分光する一対の反射ミラー(13、15)とを備え、前記一対の反射ミラー(13、15)で分光された光が前記一方の面(11a)から前記基板(11)内に入射すると共に、前記基板(11)を通過して前記基板(11)の他方の面(11b)から射出するようになっており、前記他方の面(11b)から射出した光を前記他方の面(11b)に対向する位置に配置された受光部(20)に入射にするようにしたファブリペロー干渉計において、
前記受光部(20)のうち前記光を受光する領域を透過領域(40)とし、前記透過領域(40)を囲んだ領域をアパーチャ部(41)としたとき、
前記基板(11)の他方の面(11b)のうち前記透過領域(40)に対応する領域には、前記基板(11)内を通過する光をこの光の進行方向と同じ方向に射出する射出面(11c)が設けられており、
前記基板(11)の他方の面(11b)のうち前記アパーチャ部(41)に対応する領域には、当該領域から射出される光を前記透過領域(40)から離れる方向に屈折させる傾斜面(11e)が設けられていることを特徴とするファブリペロー干渉計。
IPC (3件)：
G01J 3/26
, G01N 21/35
, G01B 9/02
G01J3/26
, G01N21/35 Z
, G01B9/02
2F064AA00
, 2F064AA15
, 2F064EE06
, 2F064GG20
, 2F064HH03
, 2F064KK01
, 2F064KK04
, 2G020AA03
, 2G020BA12
, 2G020CA12
, 2G020CB06
, 2G020CB07
, 2G020CB42
, 2G020CC23
, 2G020CC63
, 2G020CD03
, 2G020CD13
, 2G020CD16
, 2G020CD22
, 2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059CC04
, 2G059CC05
, 2G059CC06
, 2G059CC13
, 2G059CC15
, 2G059EE01
, 2G059EE10
, 2G059EE12
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059JJ03
, 2G059LL04
