特許

J-GLOBAL ID：200903042947964500

煙道ガス浄化方法及び装置

発明者： チャールス デイヴィス ,  レイヨ クイヴァライネン ,  ヤム リー ,  カルッカムパラヤム セラクマー
出願人/特許権者： エー.アールストロム コーポレーション
代理人 (1件)： 岡部 正夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-300195
公開番号（公開出願番号）：特開平7-000764
出願日： 1993年11月30日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】【目的】 触媒汚染の最小化を図り、触媒エレメントの交換が容易な煙道ガス浄化方法及び装置(10)を提供する。【構成】 0.04乃至0.5μm程度の細孔サイズを有する薄い多孔質セラミック層でコーティングされたモノリシックセラミックフィルター支持構造体からなるバリヤーフィルターモジュール(12)内で煙道ガスを最初に浄化する。次に、該バリヤーフィルターモジュールの下流側に配置された、触媒でコーティングされた支持構造体から成る触媒モジュール(14)内で浄化させる。

請求項（抜粋）：

約0.04乃至0.5ミクロンの細孔サイズを有する薄い多孔質セラミック層でコーティングされた単体セラミックフィルター支持構造体からなるバリヤーフィルターモジュールおよび触媒でコーティングされた支持構造体からなる触媒モジュールとを使用して熱煙道ガスまたはプロセスガスを浄化する方法において、(a)ガスを約0.04乃至0.5ミクロンの細孔サイズを有する該薄い多孔質セラミック層と接触させて該バリヤーフィルターモジュールを通過せしめ、そして次に(b)そのガスを該触媒モジュールを通過させてそこで該ガスとの触媒反応を起こさせることを特徴とするガス浄化方法。

IPC (4件)：

B01D 53/94 ,  B01D 46/00 ZAB ,  B01D 46/00 302 ,  B01D 53/86 ZAB

FI (3件)：

B01D 53/36 101 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 103 Z