特許
J-GLOBAL ID：200903042949685640
瓦の施釉装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 晃一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-023819
公開番号（公開出願番号）：特開2000-219582
出願日： 1999年02月01日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：
【要約】【課 題】瓦に濃淡、斑、その他のデザイン模様を形成する施釉装置を提供する。【解決手段】ノズルの向きをそれぞれ異にした四個のスプレーガン1a、1b、1c、1dと、釉薬入りのタンク2と、各スプレーガン1a、1b、1c、1dとタンク2にエアを供給するコンプレッサーよりなるエア源2と、スプレーガンごとに設けられ、エア源2からスプレーガンへエアを供給或いはその停止を行う電磁弁7a、7b、7c、7dと、該電磁弁を制御するコントローラ8よりなり、コントローラ8に組込まれたプログラムにより各電磁弁を制御して1ないし4のスプレーガンのうち、任意のスプレーガンを選択し、釉薬の吹付けを行う。
請求項（抜粋）：
釉薬が入れられるタンクと、エアー源と、エアー源に接続される複数のスプレーガンと、スプレーガンごとに設けられ、エアー源からスプレーガンへエアの供給或いはその停止を制御する電磁弁と、該電磁弁の開閉を制御するコントローラと、タンク内の釉薬をスプレーガンに供給する供給手段とからなることを特徴とする瓦の施釉装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C04B 41/86 Q
, B05B 12/04
4F035AA04
, 4F035BA03
, 4F035BA11
, 4F035BC06
, 4F035CC01
, 4F035CD00
