投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-188560
公開番号（公開出願番号）：特開平9-017725
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】 ArFエキシマレーザを光源とした場合に生じる2光子吸収による投影露光装置の光学素子損傷を抑え、その性能低下を防止する。【構成】 ArFエキシマレーザを光源とする投影露光装置において、光源21と投影光学系2との間に、レーザ光を異なる光路のレーザ光として2つに分割する分割手段と、分割されたレーザ光に光路差を与えるための手段と、前記分割されかつ光路差が与えられたレーザ光を同一の光軸上に戻すための手段からなるパルス分割装置1を備える。光はこのパルス分割装置1において2つの光路に分割され、分割されたレーザ光はそれぞれ異なる距離を伝搬して再び同一の光軸上に戻るため、1パルスの光が時間軸上において2つ以上のパルス列に変化され、レーザ光のパルス強度のピークが低くされ、投影露光装置の光学素子における2光子吸収による損傷が低減される。

請求項（抜粋）：

光源から射出されるレーザ光を投影光学系により被露光体に露光するための投影露光装置において、前記投影光学系に入射されるレーザ光を異なる光路のレーザ光として2つに分割する分割手段と、分割されたレーザ光に光路差を与えるための手段と、前記分割されかつ光路差が与えられたレーザ光を同一の光軸上に戻すための手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 B , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭63-073221
半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-182001 出願人：日本電気株式会社

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