特許
J-GLOBAL ID：200903042972743933
被膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-042550
公開番号（公開出願番号）：特開平7-254315
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】アーク放電プラズマを用いて、大きい面積の基体に均一な厚みの被膜を形成する方法を提供すること。【構成】2つのプラズマ発生源を、それぞれから引き出す放電プラズマ流の引き出し方向が対向するように配置し、さらに基体を水平方向でプラズマの引き出し方向と直交する方向に移動させながら被膜の被覆を行う。
請求項（抜粋）：
減圧した雰囲気が調節できる成膜室6の側壁部に設置したプラズマ発生源2と、前記プラズマ発生源内で発生させた不活性ガスを含むアーク放電プラズマを成膜室6内に水平方向に放電プラズマ流として引き出す磁気コイル4、14と、成膜室6の底部に設けられたハース7と前記ハースに取り付けられ前記アーク放電プラズマ流を下方のハース7内に導く磁場形成手段8とを有する蒸発手段を用い、前記ハース内に充填した蒸着材料を蒸発させてハース7の上方に保持された基体表面に蒸着材料を含む物質の被膜を形成する方法において、前記蒸発手段を2組、プラズマ発生源からの放電プラズマ流の引き出し方向が対向するように配置し、かつ、前記基体の保持は水平方向で前記プラズマの引き出し方向と直交する方向に移動させるようにしたことを特徴とする被膜の形成方法。
IPC (4件)：
H01B 13/00 503
, B01J 19/08
, C23C 14/24
, H01L 21/285
