特許

J-GLOBAL ID：200903042998455278

ウェハの昇降装置

発明者： 小松 学
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 林 恒徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-091691
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284426
出願日： 2000年03月29日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】清浄な環境に保たれたエンクロージャ内に設置された装置へウェハを供給するためのウェハの昇降装置であって、その内部を十分に清浄な環境に保ち、ウェハへのパーティクルの付着を減少させることのできるウェハの昇降装置を提供する。【解決手段】ウェハの昇降装置10に、それに隣接するエンクロージャ20内部の清浄な空気を取り込み、その清浄な空気を昇降装置10内部全体に渡って流すことのできる送風手段14を設ける。

請求項（抜粋）：

空気が清浄な状態に保たれた閉鎖領域内に設けられた搬送手段へウェハを供給するために、密閉型のポット内に置かれた該ウェハを上下移動させる、該閉鎖領域に隣接して設けられたウェハの昇降装置であって、該閉鎖領域内の清浄な空気を該昇降装置内部へ取り込む送風手段を有することを特徴とするウェハの昇降装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/07 ,  F24F 7/06

FI (4件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/00 A ,  B65G 49/07 L ,  F24F 7/06 C

Fターム (13件)：

3L058BE02 ,  3L058BF01 ,  3L058BF08 ,  5F031CA02 ,  5F031DA09 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031GA49 ,  5F031MA33 ,  5F031NA02 ,  5F031NA15 ,  5F031NA16 ,  5F031NA18