特許
J-GLOBAL ID:200903043004234363

細胞培養基板の製造方法および細胞培養基板製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-091653
公開番号(公開出願番号):特開2005-270055
出願日: 2004年03月26日
公開日(公表日): 2005年10月06日
要約:
【課題】 本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、長期にわたりパターンを維持しながら細胞を培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法、およびその製造方法に用いられる製造装置を提供することを主目的としている。【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材上に、遮光部および、前記遮光部を覆うように、細胞と接着性を有し、かつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により分解または変性される細胞接着材料を含有する細胞接着層を形成し、パターニング用基板とするパターニング用基板形成工程と、 前記パターニング用基板に前記基材側からエネルギーを照射し、前記細胞接着材料が分解または変性された細胞接着阻害部と、前記細胞接着阻害部以外の細胞接着部とからなるパターンを形成するエネルギー照射工程と、 細胞および培養液を含有する細胞培養液中で、前記細胞接着部に前記細胞を接着させる細胞接着工程と を有することを特徴とする細胞培養基板の製造方法を提供する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材上に、遮光部および、前記遮光部を覆うように、細胞と接着性を有し、かつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により分解または変性される細胞接着材料を含有する細胞接着層を形成し、パターニング用基板とするパターニング用基板形成工程と、 前記パターニング用基板に前記基材側からエネルギーを照射し、前記細胞接着材料が分解または変性された細胞接着阻害部と、前記細胞接着阻害部以外の細胞接着部とからなるパターンを形成するエネルギー照射工程と、 細胞および培養液を含有する細胞培養液中で、前記細胞接着部に前記細胞を接着させる細胞接着工程と を有することを特徴とする細胞培養基板の製造方法。
IPC (2件):
C12M1/00 ,  C12N5/06
FI (2件):
C12M1/00 A ,  C12N5/00 E
Fターム (10件):
4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC07 ,  4B029GA08 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065BC41 ,  4B065CA44 ,  4B065CA46
引用特許:
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (2件)

前のページに戻る