特許

J-GLOBAL ID：200903043005601033

疎水化キトサン及び疎水化キトサン固定化ゲル

発明者： 脇田 正明
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-136546
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316201
出願日： 1994年05月26日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：

【要約】【構成】キトサンのアミノ基に炭素数8以上の直鎖アルキル基を導入してなる疎水化キトサン、キトサンのアミノ基に炭素数8以上の直鎖アルキル基及びアニオン性基を導入してなる疎水化キトサン及びこれらの疎水化キトサンを、不溶性担体に共有結合で固定化してなる疎水化キトサン固定化ゲル。【効果】本発明の疎水化キトサン及び疎水化キトサン固定化ゲルは、キトサンを素材として簡単な方法で合成しうるものであり、カチオン性疎水化キトサン及びアニオン性疎水化キトサンは、化学的な安定性に富む薄膜形成性高分子として有用である。また、これらの疎水化キトサンを、共有結合で固定化した疎水化キトサン固定化ゲルは、水中で安定な薄膜固定化ゲルとして使用することが可能で、薄膜の特性を生かした微量物質の分離や検出、さらには膜タンパク質などを薄膜に組み込んでその機能を利用するなど広範囲に使用することができる。

請求項（抜粋）：

キトサンのアミノ基に炭素数8以上の直鎖アルキル基を導入してなる疎水化キトサン。