被処理物の処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：朝比一夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-241220
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057254
出願日： 2001年08月08日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】例えば核酸のような被処理物を処理する作業が容易であるとともに、その作業に要する手間と時間とを軽減することができる被処理物の処理装置を提供すること。【解決手段】図1に示すマイクロアレイ処理装置(被処理物の処理装置)1は、2つの密閉可能な処理槽(反応槽)3、3を備える装置本体2と、パーソナルコンピュータ110と、各処理槽3内に着脱自在に収納(設置)される合計4つの処理ユニット30とを有している。装置本体2は、水平ステージ2aと垂直ステージ2bとを備え、水平ステージ2aには、チップ設置部21と、プローブ液収納容器設置部22と、容器設置部23と、各処理槽3とが設けられ、垂直ステージ2bには、プローブ液供給手段(反応液供給手段)6が設けられている。また、装置本体2の内部には、主に、供給用回路7と、排出用回路8と、温度調整手段9とが設けられている。

請求項（抜粋）：

密閉可能であり、その内部に被処理物を設置する処理部を備える処理槽と、前記処理部の温度を調整する温度調整手段と、前記被処理物と反応し得る反応液を、前記被処理物に供給する反応液供給手段とを有することを特徴とする被処理物の処理装置。

IPC (5件)：

G01N 37/00 , G01N 37/00 102 , G01N 35/02 , C12M 1/00 , C12N 15/09

FI (5件)：

G01N 37/00 , G01N 37/00 102 , G01N 35/02 G , C12M 1/00 A , C12N 15/00 F

Fターム (15件)：

2G058BB02 , 2G058BB03 , 2G058CA01 , 2G058CA02 , 2G058CC02 , 2G058CD01 , 2G058FB02 , 2G058FB25 , 4B024AA11 , 4B024AA19 , 4B024CA01 , 4B024CA11 , 4B024HA11 , 4B029AA23 , 4B029BB20

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