特許
J-GLOBAL ID：200903043020996265
磁気デイスクの製造用治具および磁気デイスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-173695
公開番号（公開出願番号）：特開平5-020682
出願日： 1991年07月15日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 磁気ディスクの製造において、基板全体に渡って均一な表面処理や成膜ができる製造用治具およびそれを用いた製造方法を提供する。【構成】 最大外径が基板1の内径1aよりも大きい円筒状のコマ11をシャフト14に挿入し、そのシャフト14をラックに取り付けた製造用治具を表面処理用または成膜用の溶液中に浸した後シャフト14の軸方向と平行な方向を中心軸とする周回運動をさせることにより、基板1が互いに接触することなく、また基板1全体に渡って均一な表面処理や成膜ができる。
請求項（抜粋）：
外径が磁気ディスクの基板の内径よりも小さく幅が前記基板の厚みよりも大きい端部を有しその端部を除く部分の最大外径が前記基板の内径よりも大きい円筒状のコマと、そのコマを複数個挿入して配置する円柱状のシャフトと、そのシャフトの両端を固定して設置するラックとからなる磁気ディスクの製造用治具。
IPC (2件)：
前のページに戻る
