特許

J-GLOBAL ID：200903043027420717

投影光学系の調整方法

発明者： 小澤 稔彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-226497
公開番号（公開出願番号）：特開2000-047103
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】作業効率が比較的良く、投影光学系の結像性能の比較的高い投影光学系の調整方法を提供する。【解決手段】原版上のパターンの像を基板上の感光剤上に形成するための投影光学系を調整する方法において、投影光学系を通過する放射の波面を測定する第1工程aと、波面の測定データと投影光学系の調整量とに基づいて投影光学系の結像シミュレーションを行って結像評価量を求め、結像評価量が予め定められた範囲内に追い込まれたときの調整量を算出する第2工程d〜fと、算出された調整量に基づいて投影光学系を調整する第3工程gとを備える。

請求項（抜粋）：

原版上のパターンの像を基板上の感光剤上に形成するための投影光学系を調整する方法において、前記投影光学系を通過する放射の波面を測定する第1工程と、該波面の測定データと前記投影光学系の調整量とに基づいて前記投影光学系の結像シミュレーションを行って結像評価量を求め、該結像評価量が予め定められた範囲内に追い込まれたときの前記調整量を算出する第2工程と、該算出された調整量に基づいて前記投影光学系を調整する第3工程とを備えたことを特徴とする投影光学系の調整方法。

IPC (4件)：

G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  G06F 17/50

FI (4件)：

G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  G06F 15/60 680 A

Fターム (9件)：

2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA09 ,  5B046JA04 ,  5F046AA05 ,  5F046AA07 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB12