特許
J-GLOBAL ID：200903043028264638
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小笠原 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-014009
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203858
出願日： 1995年01月31日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】大気の影響を全く受けることなく、基板の洗浄・乾燥から熱処理までを1つの装置内で一貫して行う基板処理装置を提供する。【構成】メカニカルインタフェイス2は、他工程から搬入された基板を受け入れて保持する。減圧チャンバ4は、密閉された空間を形成しており、その下部が洗浄チャンバ部41として構成され、その上部が成膜チャンバ部42として構成される。メカニカルインタフェイス2に保持された基板は、移載機3によって洗浄チャンバ部41内に収納される。この洗浄チャンバ部41において、薬液による洗浄処理と、純水による水洗処理と、乾燥処理とが施される。洗浄・乾燥処理の終了後、基板はボートエレベータによって成膜チャンバ部42に収納される。この成膜チャンバ部42において、基板は、炉体によって加熱される。
請求項（抜粋）：
基板の洗浄・乾燥処理と熱処理とを密閉された空間内で一元的に行う基板処理装置であって、他工程から搬入された基板を受け入れて保持する基板受け入れ部、前記密閉された空間を形成する減圧チャンバ、および前記基板受け入れ部と前記減圧チャンバとの間で、前記基板を受け渡しする移載機を備え、前記減圧チャンバは、前記移載機によって前記基板受け入れ部から移載された前記基板を収容して、薬液による洗浄処理と、純水による水洗処理と、乾燥処理とを施す洗浄チャンバ部と、前記洗浄チャンバの上部に設けられ、その内部に前記基板を加熱する炉体を有する成膜チャンバ部と、前記洗浄チャンバ部と前記成膜チャンバ部との間の連通口を開閉する開閉機構とを含み、前記洗浄チャンバ部と前記成膜チャンバ部との間で前記基板を昇降させる昇降手段をさらに備える、基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/205
, H01L 21/31
, H01L 21/68
