特許

J-GLOBAL ID：200903043036851100

洗浄設備

発明者： 北沢 照啓
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-185699
公開番号（公開出願番号）：特開2004-025045
出願日： 2002年06月26日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】薬液を繰り返して膜モジュールの薬品洗浄に使用することができ、薬液の消費量を減少させることのできる洗浄設備を提供する。【解決手段】本発明の洗浄設備10は、酸洗浄系とアルカリ洗浄系を備え、各洗浄系は、膜モジュール14の薬液を回収する薬液タンク26、56と、薬液タンク26、56の薬液をろ過処理する再生用膜モジュール30、60と、薬液タンク26、56に補給する薬液が貯留された補給用薬液タンク32、62とから構成される。薬液タンク26、56の薬液をろ過処理することによって薬液中の固形物が分離、除去され、薬液タンク26、56に薬液を補給することによって薬液のpHが調整される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

タンクに貯留された薬液を膜処理設備に循環供給することによって、前記膜処理設備の膜モジュールを薬品洗浄する洗浄設備において、 前記タンクに貯留された前記薬品洗浄に使用後の薬液をろ過処理することによって、該薬液に含まれる固形物を分離して除去するフィルタ部材と、 前記タンクに新品の薬液を補給することによって、前記タンクに貯留された薬液のpHを調整する薬液補給手段と、 を備えたことを特徴とする洗浄設備。

IPC (3件)：

B01D65/02 ,  B01D65/06 ,  C02F1/44

FI (4件)：

B01D65/02 ,  B01D65/06 ,  C02F1/44 E ,  C02F1/44 F

Fターム (17件)：

4D006GA02 ,  4D006JA38A ,  4D006JA39A ,  4D006JA51A ,  4D006JA55A ,  4D006KC01 ,  4D006KC16 ,  4D006KD12 ,  4D006KD15 ,  4D006KD16 ,  4D006KD17 ,  4D006KD24 ,  4D006KE15 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB07 ,  4D006PB08