特許

J-GLOBAL ID：200903043056467080

ケイ素系ポリマーの放射線照射によるマイクロセラミックチューブの製造法

発明者： 杉本 雅樹 ,  出崎 亮 ,  岡村 清人
出願人/特許権者： 日本原子力研究所
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-276175
公開番号（公開出願番号）：特開2003-082532
出願日： 2001年09月12日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】 直径数ミクロン〜数百ミクロンの炭化ケイ素(SiC)及び窒化ケイ素(SiN)のマイクロセラミックチューブの製造法に関する。【解決手段】 有機ケイ素ポリマー繊維を電離性放射線により表面を酸化不融化し、有機溶媒により中心部の未架橋部分を抽出して中空のケイ素ポリマー繊維とし、これを不活性ガス中で焼成してセラミック化することによりマイクロSiCセラミックチューブを製造する方法。

請求項（抜粋）：

有機ケイ素ポリマー繊維を電離性放射線により表面を酸化不融化し、有機溶媒により中心部の未架橋部分を抽出して中空のケイ素ポリマー繊維とし、これを不活性ガス中で焼成してセラミック化することによりマイクロSiCセラミックチューブを製造する方法。

IPC (8件)：

D01F 9/10 ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CFH ,  D06M 10/00 ,  D06M 11/00 ,  D06M 13/165 ,  C08L 83:05

FI (9件)：

D01F 9/10 A ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CFH ,  D06M 10/00 J ,  D06M 11/00 ,  D06M 13/165 ,  C08L 83:05 ,  D06M 7/00 Z

Fターム (24件)：

4F073AA31 ,  4F073AA32 ,  4F073BA33 ,  4F073BB01 ,  4F073CA41 ,  4F073CA42 ,  4F073DA06 ,  4F073GA01 ,  4L031AA29 ,  4L031AB04 ,  4L031AB25 ,  4L031CB07 ,  4L033AA09 ,  4L033AB01 ,  4L033AC15 ,  4L033BA14 ,  4L037CS29 ,  4L037CS32 ,  4L037FA01 ,  4L037FA04 ,  4L037PA49 ,  4L037PA50 ,  4L037PF08 ,  4L037PF26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特許第3050959号
  
• 繊維強化窒化ケイ素セラミックス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-006641   出願人：日本原子力研究所, 日立電線株式会社