特許

J-GLOBAL ID：200903043066664925

耐熱性感光性重合体組成物及びレリーフパターンの製造法

発明者： 布村 昌隆 ,  内村 俊一郎 ,  佐々木 守 ,  西尾 繁
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-047455
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239844
出願日： 1997年03月03日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 感度が高く、未露光部残膜率が高いポジ型の耐熱性感光性重合体組成物及びレリーフパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (a)一般式(I)【化1】(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示し、R3は1価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸エステル、(b)o-キノンジアジド化合物及び(c)一般式(II)【化2】(式中、R4、R5はアルキル基を示す)で表される化合物を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物並びにこの耐熱性感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程及び加熱処理する工程を含むレリーフパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

(a)一般式(I)【化1】(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示し、R3は1価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸エステル、(b)o-キノンジアジド化合物及び(c)一般式(II)【化2】(式中、R4、R5はアルキル基を示す)で表される化合物を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 531 ,  G03F 7/023 501 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (9件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 531 ,  G03F 7/023 501 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/312 B ,  H01L 21/30 502 R