特許
J-GLOBAL ID:200903043081307314
真空乾燥によって薬物処方から高沸点溶媒を除去する方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-532883
公開番号(公開出願番号):特表2001-511777
出願日: 1998年01月28日
公開日(公表日): 2001年08月14日
要約:
【要約】高沸点溶媒に溶解した医薬組成物の溶液に低沸点共溶媒を添加して高沸点溶媒および低沸点共溶媒の混合物を形成させ、ついで真空下にて該溶媒/共溶媒混合物を除去することを含むことを特徴とする、高沸点溶媒に溶解した医薬組成物から高沸点溶媒を除去する方法。
請求項(抜粋):
高沸点溶媒中の医薬化合物の溶液に低沸点共溶媒を添加し、ついで真空下にて該高沸点溶媒および該低沸点共溶媒を除去することを含む、高沸点溶媒中の医薬化合物の溶液から高沸点溶媒を除去する方法。
IPC (14件):
A61K 9/14
, A61K 31/17
, A61K 31/337
, A61K 31/4375
, A61K 31/704
, A61K 31/7048
, A61K 47/02
, A61K 47/12
, A61K 47/26
, A61K 47/32
, A61K 47/36
, A61K 47/42
, A61P 35/00
, B01D 1/00
FI (14件):
A61K 9/14
, A61K 31/17
, A61K 31/337
, A61K 31/4375
, A61K 31/704
, A61K 31/7048
, A61K 47/02
, A61K 47/12
, A61K 47/26
, A61K 47/32
, A61K 47/36
, A61K 47/42
, A61P 35/00
, B01D 1/00 Z
前のページに戻る