特許
J-GLOBAL ID:200903043081642644

透過型電子顕微鏡用試料の作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宮井 暎夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-088289
公開番号(公開出願番号):特開2001-272316
出願日: 2000年03月28日
公開日(公表日): 2001年10月05日
要約:
【要約】【課題】 半導体ウェハまたは半導体チップから直接、TEM観察用試料を得ることができる。【解決手段】 半導体基板28上の特定箇所2を集束イオンビーム3を用いて透過型電子顕微鏡で観察が可能な程度の厚さに薄膜化し、特定箇所2を含む観察領域を試料1として切り出す工程と、正立型光学顕微鏡と3次元マニュピュレータからなるマニュピュレータシステムを用いて試料1を作製する工程とを含み、マニュピュレータシステムを用いて試料1を作製する際に、マニュピュレータ先端6に取付けられた絶縁体棒7からなるマイクロピペット先端8に試料1を静電吸着し、この試料1を透過型電子顕微鏡用観察メッシュ9に落下させる。これにより、半導体ウェハまたは半導体チップから直接、透過型電子顕微鏡の試料1を得ることができ、半導体プロセス工程管理を可能にする。
請求項(抜粋):
半導体基板上の特定箇所を集束イオンビームを用いて透過型電子顕微鏡で観察が可能な程度の厚さに薄膜化し、前記特定箇所を含む観察領域を試料として切り出す工程と、正立型光学顕微鏡と3次元マニュピュレータからなるマニュピュレータシステムを用いて試料を作製する工程とを含み、前記マニュピュレータシステムを用いて試料を作製する際に、マニュピュレータ先端に取付けられた絶縁体棒からなるマイクロピペット先端に前記試料を静電吸着し、この試料を透過型電子顕微鏡用観察メッシュに落下させることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。
IPC (6件):
G01N 1/28 ,  B01L 3/02 ,  B03C 7/02 ,  G01N 1/32 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305
FI (7件):
B01L 3/02 B ,  B03C 7/02 B ,  G01N 1/32 B ,  H01J 37/20 Z ,  H01J 37/305 A ,  G01N 1/28 F ,  G01N 1/28 G
Fターム (11件):
4D054GA01 ,  4D054GB09 ,  4D054GB10 ,  4G057AB11 ,  4G057AB34 ,  4G057AB39 ,  5C001AA01 ,  5C001BB07 ,  5C001CC01 ,  5C034BB06 ,  5C034BB09

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