特許
J-GLOBAL ID：200903043083002740
X線発生方法及び回転対陰極X線発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 興作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-009221
公開番号（公開出願番号）：特開2004-172135
出願日： 2004年01月16日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】従来の回転対陰極X線発生装置の出力限界を越えた出力を得ることが可能な、X線発生方法及び回転対陰極X線発生装置を提供する。【解決手段】回転対陰極の表面に電子線を照射し、前記回転対陰極の前記電子線が照射された部分を前記回転対陰極の融点近傍又は融点以上にまで加熱して、少なくとも部分的に溶解させた状態で前記回転対陰極よりX線を発生させる。次いで、前記回転対陰極の、前記電子線が照射された前記部分に対して、その表面から内部に向かうように遠心力を作用させ、前記部分を前記回転対陰極の内方に設けられた所定の構造物で支持する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
回転対陰極の表面に電子線を照射し、前記回転対陰極の前記電子線が照射された部分を前記回転対陰極の融点近傍又は融点以上にまで加熱して、少なくとも部分的に溶解させた状態で前記回転対陰極よりX線を発生させる工程と、
前記回転対陰極の、前記電子線が照射された前記部分に対して、その表面から内部に向かうように遠心力を作用させ、前記部分を前記回転対陰極の内方に設けられた所定の構造物で支持する工程と、
を具えることを特徴とする、X線発生方法。
IPC (3件)：
H01J35/10
, G21K5/02
, G21K5/08
H01J35/10 H
, G21K5/02 X
, G21K5/08 X
