特許
J-GLOBAL ID：200903043085192562
磁気共鳴イメージング装置の超伝導磁石及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (5件)：
波多野 久
, 関口 俊三
, 猿渡 章雄
, 河村 修
, 山田 毅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-022424
公開番号（公開出願番号）：特開2009-178491
出願日： 2008年02月01日
公開日（公表日）： 2009年08月13日
要約：
【課題】MRI装置の超伝導磁石の製造方法において、超伝導磁石の製造コストを抑えること。【解決手段】MRI装置の超伝導磁石の製造方法は、マンドレルの外周に溝を削成する溝削成ステップ(ステップS1)と、所要温度でマンドレルの材料が有する軸方向の線膨張率に対応する巻き角度でマンドレルの外周に巻き付けられたG-FRPによってG-FRP層を形成するG-FRP層形成ステップ(ステップS2)と、超伝導線を嵌合するために、G-FRP層内の外周部分に嵌合溝を削成する嵌合溝削成ステップ(ステップS3)と、嵌合溝に超伝導線を嵌合して、マンドレルの外側に超伝導コイルを形成させる超伝導コイル形成ステップ(ステップS4)と、を有すること。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
マンドレルと、
超伝導線と、
前記超伝導線を前記マンドレルの外周に巻き付けるために前記超伝導線を案内する超伝導線案内部と、を備え、
前記超伝導線案内部に、
所要温度で前記マンドレルの材料が有する軸方向の線膨張率に対応する巻き角度で前記マンドレルの外周に巻き付けられたガラス繊維によって形成されるガラス繊維層と、
前記超伝導線を嵌合するために、前記ガラス繊維層内の外周部分に削成される嵌合溝と、
を設けることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置の超伝導磁石。
IPC (3件)：
A61B 5/055
, G01R 33/381
, H01F 6/00
A61B5/05 331
, G01N24/06 510B
, H01F7/22 C
出願人引用 (1件)
-
MRI用超電導磁石
公報種別：公開公報
出願番号：特願2005-190873
出願人：株式会社日立製作所
審査官引用 (3件)
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