特許
J-GLOBAL ID：200903043089510178
イオン注入装置、イオン注入方法、イオンビーム源、及び可変スリット機構
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-086902
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283552
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 イオンビームの発散を抑制し、低エネルギで制御性よくイオン注入を行うことができるイオン注入装置を提供する。【解決手段】 イオン源が、ビーム電位を与えられる空間内にイオンを発生させる。ビーム電位よりも低い加速電位が与えられた加速電極が、イオン源内に発生したイオンを取り出して加速し、イオンビームを形成する。質量分析器が、加速電極で加速されたイオンビームから所望のイオンを抽出し、実質的に所望のイオンのみを含むイオンビームを出射する。減速電極が、質量分析器から出射したイオンビームを減速する。減速電極には、ビーム電位と加速電位との中間の減速電位が与えられている。フィルタ電磁石が、減速電極により減速されたイオンビームから、所望のエネルギを持ったイオンを取り出し、実質的に所望のエネルギのイオンのみを含むイオンビームを出射する。
請求項（抜粋）：
ビーム電位を与えられる空間内にイオンを発生させるイオン源と、前記ビーム電位よりも低い加速電位が与えられ、前記イオン源内に発生したイオンを取り出して加速し、イオンビームを形成する加速電極と、前記加速電極で加速されたイオンビームから所望のイオンを抽出し、実質的に該所望のイオンのみを含むイオンビームを出射する質量分析器と、前記ビーム電位と加速電位との中間の減速電位が与えられ、前記質量分析器から出射したイオンビームを減速する減速電極と、前記減速電極により減速されたイオンビームから、所望のエネルギを持ったイオンを取り出し、実質的に該所望のエネルギのイオンのみを含むイオンビームを出射するフィルタ電磁石とを有するイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, H01J 37/05
, H01J 37/09
, H01L 21/265
H01J 37/317 Z
, H01J 37/05
, H01J 37/09 A
, H01L 21/265 603 B
