特許

J-GLOBAL ID：200903043101155893

再生ポリグルカン薄膜の製造方法

発明者： ゲールハルト、ヴェーグナー ,  ゲールハルト、ヴェンツ ,  マティアス、シャウプ ,  アルミン、シュタイン ,  ディーター、クレム
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 田代 烝治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-065638
公開番号（公開出願番号）：特開平6-016833
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年01月25日
要約：

【要約】【目的】 ポリグルカンをシリレート化剤と反応させ、フィルムを形成し、脱シリレート処理することにより再生ポリグルカンの均斉な薄膜を製造する方法において、極めて簡単な態様で均斉な薄膜を再現可能に製造し、シリレート化剤を直接的に回収すること。【構成】 フィルム形成をラングミュア/ブロジェット法あるいはスピンコーティング法で行い、脱シリレート処理を気状鉱酸もしくは有機酸で行うことを特徴とする方法。

請求項（抜粋）：

ポリグルカンをシリレート化剤と反応させ、フィルム形成し、脱シリレート処理することにより再生ポリグルカン薄膜を製造する方法において、フィルム形成をラングミュア/ブロジェット法あるいはスピンコーティング法で行い、脱シリレート処理を気状鉱酸もしくは有機酸で行うことを特徴とする方法。